微細加工(MEMS等)や光のマスクを行うための高解像度フォトマスクフィルム(フィルムマスク)を製作しています

MEMS用マスクフィルム

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マスクフィルムとは、フォトレジストを露光する際に使用する光学的マスクで、
PET製のベース(基材)できている銀塩の白黒フイルムです。

ベース素材にガラスを使用したガラスマスクよりも軽量で扱いやすく安価です。

温度湿度を一定に保った環境でレーザーにより描画し、現像処理しています。

マスクフィルムの最高解像度は25,400dpi(レーザスポット径約0.004mm)です。

マスクフィルムをご注文される際は、データまたは図面をご支給下さい。

CADデータ     dwg , dxf , ガーバーデータ
グラフィックデータ ai , eps 等
に対応しています。

それぞれのデータ作成時の注意点は以下のページをご覧下さい。

CADデータの作り方

グラフィックデータの作り方

描画条件は次の通りです。ご注文の際にご指示をお願いいたします。

解像度

  6,350dpi (0.004mmピッチ描画)
12,700dpi (0.002mmピッチ描画)
25,400dpi (0.001mmピッチ描画)

膜面

膜上 (PET製ベースの上側に銀塩膜)
膜下 (PET製ベースの下側に銀塩膜、レジストに密着して上から露光する場合は通常膜下です)

実際の描画性能は、装置の公称最小線幅0.008mmです。
しかし形状によってさらに微細な部分が描画できたり、もっと大きくないと描画できない場合があります。
実際の描画状態は、サンプルフィルムを準備しておりますので、お問い合わせページからご用命ください。

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